Le CEA LETI souhaite acquérir un équipement de transfert de plaquettes, SORTER 300mm. Cet équipement traitera des plaquettes de 300 mm et sera destiné au tri et au transfert de plaquettes d'un support à l'autre, avec les caractéristiques suivantes : - Alignement des encoches avec sélection de l'angle - Lecture …
Le CEA / LETI souhaite acquérir un équipement de découpe laser. Le présent marché présente les options facultatives suivantes : - Station de nettoyage (Cleaning station) ; - Echangeurs de chaleur / refroidisseurs (Heat exchangers / chillers) ; - Formation Maintenance de 1er niveau ; - Formation Maintenance avancée ; …
le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de découpe laser compatible avec un processus en salle blanche. L'équipement doit être capable de rainurer, nettoyer et découper la plaquette de silicium. Cet équipement doit traiter des plaquettes de 50 à 300 mm, avec ou sans cadre ou anneau, et est destiné à …
Le CEA-Leti souhaite faire l’acquisition d’une piste de lithographie 248 nm. Cet équipement vise à être utilisé pour traiter des plaques 300mm pour le développement des technologies avancées FDSOI 7 nm et au-delà, et plus particulièrement les niveaux implant et BEOL. Cet équipement est destiné à étaler, développer et cuire …
Le CEA-Leti souhaite faire l’acquisition d'un scanner de lithographie optique 248 nm. Cet équipement est destiné à traiter des plaques 300mm pour le développement des technologies avancées FDSOI 10 nm et au-delà, et plus particulièrement les niveaux métal, via et implant. Le marché envisagé comprend les options suivantes : - …
Vairākkanālu potenciostata (galvanostata) iegāde Vairākkanālu potenciostata (galvanostata) iegāde
La présente consultation est relative à la fourniture d’un équipement de découpe de wafers d’une taille allant jusqu’à 200mm. La présente consultation est relative à la fourniture d’un équipement de découpe de wafers d’une taille allant jusqu’à 200mm.
2PP 3D Drucker 1 Stück 2PP 3D Drucker Für den Ausbau optischer Technologiekompetenzen soll am Fraunhofer-Instituts für Elektronische Nanosysteme ENAS ein direktschreibendes und flexibles Lithographiesystem beschafft werden. Für On-Chip/On-Wafer Optiken (Koppler/Wellenleiter/Refraktive Oberflächen/...) soll ein hochauflösendes 2PP 3D Drucksystem die bestehenden Lithographiestrecke ergänzen und Möglichkeiten für die Herstellung komplexer dreidimensionaler Freiformen …
La présente consultation est relative à la fourniture d’un usineur ionique pour la préparation d’échantillon pour l’Institut LETI du CEA. La présente consultation est relative à la fourniture d’un usineur ionique pour la préparation d’échantillon pour l’Institut LETI du CEA.
Pour ses activités de recherche visant au développement de nouvelles technologies silicium dont entre autres de nœuds avancés en technologie FDSOI, le CEA-LETI souhaite acquérir un système de test paramétrique. Ce système aura pour but de faire des mesures électriques à faible courant et/ou faible tension. Les options sont les …