PVD Labor-Beschichtungsanlage (Sputterdeposition) zur gleichmäßigen Beschichtung von Oberflächen pulverförmiger und flächiger (planarer) Substrate in Verbindung mit einer Technik zur Ionenimplantation beider Substratarten. PVD Labor-Beschichtungsanlage (Sputterdeposition) zur gleichmäßigen Beschichtung von Oberflächen pulverförmiger und flächiger (planarer) Substrate in Verbindung mit einer Technik zur Ionenimplantation beider Substratarten. I. Aufgabe und Rahmenbedingungen Die Beschichtungsanlage …